半导体干法刻蚀技术：原子层工艺

作者：（美） 索斯藤？莱尔（Thorsten Lill）

出版社：

机械工业出版社

ISBN：

9787111734260

电子出版物发行数量：

1000

版权持有：

机械工业出版社有限公司

电子出版物发行单位：

机械工业出版社有限公司

电子出版物发行网站：

电子出版物发行批次：

1

电子出版物发行时间：

2023-12-13

数字图书定价：

113.05

集成电路制造向几纳米节点工艺的发展，需要具有原子级保真度的刻蚀技术，原子层刻蚀（ALE）技术应运而生。《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》主要内容有：热刻蚀、热各向同性ALE、自由基刻蚀、定向ALE、反应离子刻蚀、离子束刻蚀等，探讨了尚未从研究转向半导体制造的新兴刻蚀技术，涵盖了定向和各向同性ALE的全新研究和进展。《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》以特定的刻蚀应用作为所讨论机制的示例，例如栅极刻蚀、接触孔刻蚀或3D NAND通道孔刻蚀，有助于对所有干法刻蚀技术的原子层次理解。 《半导体干法刻蚀技术：原子层工艺》概念清晰，资料丰富，内容新颖，可作为微电子学与固体电子学、电子科学与技术、集成电路科学与工程等专业的研究生和高年级本科生的教学参考书，也可供相关领域的工程技术人员参考。

5.0分